Екстремна ултравиолетова литография (EUVL) – Доклад

Екстремна ултравиолетова литография (EUVL) е усъвършенствана технология, използваща източник на светлина от 13.5 nm и е водещ кандидат за 22 nm възел литография и отвъд. I V литография сега е в пилотна фаза с инструменти 0.33-NA в обекти за производство на чипове. Очаква се масово производство в близко бъдеще.

EUV – Технологични актуализации

Множество шарки
Отлагане на атомен слой (ALD)
Пеликул
Наречен High NA
High-NA платформа, наречена „EXE

EUV литография: Какво следва?

Предизвикателство при EUVL – е силното поглъщане на EUV радиация от всички материали. EUV резистентите са структурирани така, че отпечатването се извършва в много тънък слой за изображения на повърхността на резистора. Освен това, устойчивите на EUV материали ще трябва да се развиват с предстоящото развитие на технологията на светлинните източници.

Относно TTC
Постоянно идентифицирахме стойността на новите технологии, изпълнявани от нашия доста опитен изпълнителен екип с опит като нашите професионалисти. Подобно на IP професионалистите, които овластяваме, нашият глад за развитие е безкраен. Ние ИМПРОВИЗИРАМЕ, АДАПТИРАМЕ и ПРИЛАГАМЕ по стратегически начин.

Вие също можете Контакти за организиране на консултация.

TT Consultants предлага набор от ефективни, висококачествени решения за управление на вашата интелектуална собственост, вариращи от Търсене за патентоспособност, Търсене за невалидност, FTO (Свобода на работа), Оптимизация на патентно портфолио, Патентен мониторинг, Търсене на нарушение, Изготвяне на патенти и илюстрации, и още много. Ние предоставяме както на адвокатски кантори, така и на корпорации в много отрасли с готови решения.

Изтеглете отчет